FUJIFILM Corporation (prezident: Shigehiro Nakajima) s hrdosťou ohlasuje uvedenie nového objektívu FUJINON XF16-55mmF2.8 R LM WR, ktorý rozšíri ponuku objektívov pre X sériu vo Februári 2015.
Objektív je utesnený voči poveternostným podmienkam a v celom rozsahu (24-84mm ekvivalent 35mm) má konštantnú svetelnosť f2.8.
Na objektíve je použitá nová technológia ochrannej vrstvy Nano-GI* (Gradient Index), ktorá efektívne zabraňuje vzniku odleskov alebo nežiaduceho závoja. Jedná sa o praktický štandardný zoom objektív, ktorý pokrýva široký rozsah použitia - širokouhlý 24mm ekvivalent vhodný pre fotografovanie krajiny, stredný teleobjektív 84mm ekvivalent, ideálny pre portréty.
XF16-55mm využíva lineárny motor, čo umožňuje pohodlné fotografovanie s tichým a rýchlym zaostrovaním. Vďaka utesnenej konštrukcii je objektív odolný nepriazni počasia či prachu a môže pracovať v teplotách až -10°C.
* Technológia nepravidelnej štruktúry nano-povrchu na objektíve znižuje draznosť svetla, potláča nežiaduce odlesky a zvyšuje priechodnosť svetla šošovkami objektívu.
Hlavné črty
1. Štandardný zoom-objektív s cieľom maximálnej kvality obrazu
Aby sa dosiahla najlepšia kvalita obrazu vo svojej triede, objektív sa skladá zo 17 prvkov v 12 skupinách. To zahŕňa tri asférické prvky pre minimálnu sférickú aberáciu a skreslenie, a tri členy z ED skla objektívu k zníženiu laterálnu a axiálnu chromatickú aberáciu, čím sa dosiahne ostrosť od okraja k okraju v celom rozsahu zoomu.
Použitie Fujifilm technológie HT-EBC (High Transmittance Electron Beam Coating) na celej ploche povrchu šošovky zabraňuje vzniku tieňov alebo závoja aby bol zachytený ostrý a jasný obraz. Tiež pomocou novo vyvinutej technológie povrchovej úpravy Nano-GI, ktorá mení index lomu medzi sklom a vzduchom, zdvojenie a závoj sú účinne potlačené aj pri diagonálne dopadajúcom svetle.
Deväť zaoblených lamiel clony pre hladký a kruhový bokeh.
Kombináciou tohto objektívu s fotoaparátom** s technológiou Lens Modulation Optimiser*** (LMO) je možné dosiahnuť najlepšie výsledky. LMO opraví difrakciu a produkuje obrazy s vysokou ostrosťou v celom obraze a realistický trojrozmerný efekt, a to aj pri nízkej clone.
** U fotoaparátov “FUJIFILM X-T1”, “FUJIFILM X-T1GS” a “FUJIFILM X-E2” od Januára 2015.
*** Funkcia pre spracovanie obrazu, ktorá opravuje optické účinky difrakcie.
2. Rýchle a tiché automatické zaostrovanie vďaka lineárnym motorom
Vnútorný zaostrovací systém**** sa používa pre vysokorýchlostný AF. Znížením hmotnosti objektívu a použitím dvojitého lineárneho motora, sa umožnilo rýchle a tiché zaostrenie. AF je schopný zaostriť už do rýchlosť 0,06 sekundy pri použití tela** s Phase Detection AF. Vďaka tichej uzávierke môžete fotografovať bez povšimnutia okolia.
**** Systém pohybu malej šošovky v strednej a zadnej časti objektívu, bez pohybu veľkých šošoviek tvoriacich prednú časť
3. Dokonalé utesnenie
Objektív je utesnený na 14 miestach, vďaka čomu je odolný proti poveternostným vplyvom, proti prachu a teplotám do -10°C takže je ideálny spoločník pre X-T1, ktorý ponúka rovnakú úroveň.
4. Kvalitné vyhotovenie
Ostriaci aj clonový prstenec sú kovové, a kov sa používa aj na vonkajšej strane objektívu. Vyhotovenie objektívu je veľmi precízne a bajonet objektívu je vyrobený z mosadze pre zvýšenú pevnosť
Funkcia AF+MF umožňuje presné ručné ostrenie. Po stlačení tlačidla spúšte pre automatické zaostrovanie na subjekt, je možné jemne manuálne doladiť zaostrenie pomocou zaostrovacieho prstenca.*****
***** Funkcia pre manuálne zaostrenie otáčaním zaostrovacieho krúžku pri stlačení spúšte do polovice v priebehu zámku AF. Aktualizácia firmware je nutné pre telo fotoaparátu, aby bolo možné použiť túto funkciu. (Iba pre modely: X-Pro1/X-E1/X-E2/X-T1/X-T1GS)
Technická špecifikácia Typ FUJINON XF16-55mmF2.8 R LM WR
- Typ: FUJINON XF16-55mmF2.8 R LM WR
- Konštrukcia objektívu: 17 prvkov, 12 skupín(3 asférické a 3 nízko-disperzné prvky)
- Ohnisková vzdial.: (35mm ekvivalent) f=16-55mm (24-84mm)
- Uhol záberu: 83.2°~29°
- Min. clona: F2.8
- Max. clona: F22
- Nastavenie clony: Krok, 1/3EV (19 krokov)
- Počet lamiel: 9(zaoblené lemely
- Ostriaca vzdialenosť: Normal:0.6m~∞, Macro: 30cm~10m(širokouhlé), 40cm~10m (telephoto)
- Max. priblíženie: 0.16x (telefoto)
- Rozmery: priemer x dĺžka φ83.3mm x 106.0mm
- Hmotnosť: (bez slnečnej clony a krytiek) 655g
- Priemer filtrov: φ77mm
Nový profesionálny objektív Fujinon XF 16-55 f2,8 R LM WR
0
5 with
0
počet hodnotení: 0
moje hodnotenie:
Fotosúťaž: Pro.Laika fotograf roka 2024 - 9. kolo - Farby Jesene (2)
Fotosúťaž: Portrét mobilom (10)
Fotosúťaž: Pro.Laika fotograf roka 2024 - 7. kolo - Makro a detail (2)
Fotosúťaž: Pro.Laika fotograf roka 2024 - 8. kolo - Spomienky na Leto (1)